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허타오 선전-홍콩 기술 구역, 연구개발 인력 대상 3년 다중 입국 비자 제공

11월 6, 2025
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허타오 선전-홍콩 기술 구역, 연구개발 인력 대상 3년 다중 입국 비자 제공
더 넓은 10대 정책 패키지의 일환으로, 국가정보국(NIA)은 하타오 선전-홍콩 과학기술 혁신 협력구역에서 근무하는 연구원과 기술자들이 별도의 인재 인증 없이 홍콩과 마카오에 3년간 다중 입국이 가능한 ‘인재 비자’를 받을 수 있다고 확인했다. 이 정책은 2025년 11월 5일부터 시행되며, 황강과 복전 검문소에 전용 신속 통로와 실험 재료를 위한 녹색 통관 채널도 포함된다.

하타오 구역은 본토와 홍콩 경계에 걸쳐 있으며, AI 칩, 생명공학, 신에너지 배터리에 중점을 둔 공동 연구소 클러스터로 구상되고 있다. 이 구역에 등록된 스타트업은 첫 해에 세금 신고 유예 혜택과 첨단기술 보조금 신청 우선권을 누릴 수 있다.

허타오 선전-홍콩 기술 구역, 연구개발 인력 대상 3년 다중 입국 비자 제공


국경을 넘나드는 출퇴근은 공동 팀에게 큰 어려움이었다. 개혁 전에는 직원들이 별도의 홍콩 취업 비자를 받거나 6개월마다 다중 입국 허가를 신청해야 했다. 새로 도입된 3년 유효 비자는 서류 작업을 대폭 줄여 엔지니어들이 양측에서 매일 회의에 참석할 수 있게 한다.

투자자들은 이번 조치가 미국과 캐나다 간 ‘동서 혁신 회랑’과 유사한 인력 이동을 가속화해, 광둥-홍콩-마카오 대만구가 인재 유치에서 경쟁 우위를 확보할 것으로 기대하고 있다.
출처: DotDotNews / NIA notice

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